一波爆发式增长当前,UV LED市场到底咋样
子为0.55。由于纳米线的不均匀性和制造的不完善,实际电流注入和激光运行仅在其中约50%中发生。单根纳米线的计算腔体积和载流子复合体积分别为0.627μm3和0.165μm3。
首先,使用193nm波长的激发源进行室温光致发光(PL)研究。所得到的PL光谱在246nm处具有20nm带宽的发射峰,表明高达70%的Al组成和良好的Al均匀性。大约位于210nm处的第二个峰,表明AlN壳形成在AlGaN纳米线侧壁上,这有助于抑制非辐射表面复合。
接下来,通过光刻和金属化方法来制造电注入的激光二极管。研究人员测量了低于和高于激光阈值的室温电致发光光谱。在阈值下工作,产生宽发射光谱。当电流达到0.35mA阈值时,239nm激光线开始出现。在阈值处,线宽约为0.9nm,但随着电流逐渐升高到约1.4mA,线宽逐渐升高到约1.4nm。
研究人员先前已经展示了在262nm和289nm发射的电注入AlGaN纳米线深紫外激光器。这些激光器具有高得多的组成调控,形成量子点状结构,产生仅仅几十微安的非常低的阈值电流。但是因为高组成调控抑制较短波长的激光发射,研究人员不得不提高组成均匀性,以在239nm产生激光发射。较高的均匀性导致量子点状性质消失,并将阈值电流提高到0.35mA。但是239nm的阈值电流仍然相当低,这将有助于实现基于激光的、电池供电的深紫外仪器。
创业界deep-UV LED最低波长的纪录
美国康乃尔大学的研究团队,最新就研发出一种体积小且更环保的深紫外线LED光源,并创下目前业界deep-UV LED最低波长的纪录。
研究人员采用原子级控制界面的氮化镓(GaN)与氮化铝(AlN)单层薄膜为反应作用区域,成功发射出波长介于232到270奈米的深紫外LED。这种232奈米的深紫外线,创下使用氮化镓为发光材料,所发出的光线波长最短记录。
在成功提升深紫外LED的发光效率后,研究团队的下一步是将光源整合到装置内,朝上市的目标迈进。深紫外光的应用领域包含食物保鲜、假钞辨别、光触媒、水的净化杀菌,等等。
更多最新行业资讯,欢迎点击《今日大事要闻》!
- 科技前沿:深紫外LED要在这四大市场作威作福(10-04)
- 环保意识的普遍提升推动UV LED替代UV汞灯(01-10)
- 智能机发展挑战芯片厂:业界押注EUV技术(08-29)
- 高压与安全并行 IR新款600V集成电路融合多种保护功能 (09-15)
- 具有高开关速度和过温保护功能的MOSFET驱动器可提高效率(11-02)
- Vishay推出高功率UV LED的首批两颗器件:VLMU3500-385-060和V(09-13)