为什么MOS用1,0,0的wafer
时间:10-02
整理:3721RD
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为什么MOS用1,0,0的wafer, 而Biploar用1,1,1的wafer(是不是1,1,1方向好切割?)
no body knows?
硅基(1,0,0)晶向在制作栅极是形成的表面态较少,能使MOS管产生更好的性能
谢谢回答!Bipolar用1,1,1方向只是因为好切割吗?
又学到东西了,哈哈。
不过能解释一下为什么100表面态少么?Bipolar在111面,这么说Bipolar不受表面态影响?不懂,求助!
问了一位做工艺的,都到了结论:
硅基(1,1,1)晶向的确容易切割,但不是这个原因。真正的原因是比较容易生成NWELL。而用硅基(1,0,0)晶向生成NWELL的话,不但注入的时候要偏个角度,还要进行高温处理。
硅基(1,0,0)晶向的硅与SiO2的接触面会产生较少的缺陷,适合做MOS的GATE---
准确的说(1,1,1)晶面密度很大,(1,0,0)晶面密度小
在注入推结过程中(1,1,1)晶面能够容易精确控制
因为bipolar是纵向器件,更多要求纵向精确尺寸
MOS是表面器件,使用(1,0,0)晶面可以缩短PROCESS时间
very useful information
谢谢
楼上各位吉祥~
回答得好!
表面态,扩散,注入深度