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大电流镜像MOS管尺寸该如何设计?

时间:10-02 整理:3721RD 点击:
电路工艺为:0.5umCMOS。VREF为bandgap电压,由于电路需求,Iref1和ref2最大值达到6mA,MOS管M1、M2、M3、M4的尺寸设计成如图所示。电路对M1和M2的镜像要求很高。盲点是:M1和M2的M值和W/L值该如何取舍,比如50/2,M=6;还是25/2,M=12;或者10/2,M=30。由于初次设计,对于电流大,而镜像要求又高的镜像电流MOS尺寸设计没有把握。希望能得到您的指示,万分感谢!

M大的更好,除了好匹配外,寄生电阻更多并联总值减小,功耗。
current mirrors的layout已经有太多的讲
再注意靠近避免连线电阻等问题
很奇怪电流这么大
V-I变换后如果需要大的电流也不用两路都这么大啊

M3在PAD旁边,M3的Drain是直接连在PAD上的,所以M3的W=50,提高ESD能力(不知道这样的想法对不对),然后M4需要和M3匹配,因此M4尺寸就和M3一致了。然后M1和M2考虑也在PAD附近,又都是PMOS,尺寸做得和M3、M4一致,版图设计就比较好做。但是当心M值太小影响匹配精度。M1、M2、M3、M4工作状态都是直流静态,GATE端口没有动态信号,这样子GATE寄生电阻电阻的影响应该比较小(个人见解)。用的布线是1P2M,用多少的M值才合理呢?

好像M不能太大的,太大了mirror不会太准确。
具体原因不记得了。呵呵。

我觉得如何确定关键要看你的layout,在M数增多,面积会撑大,走线会更加复杂,M数小一些会避免这种情况发生,个人认为,还是m小一些好——仅供参考!

看了大家的意见,询问Layout和其他工程师,目前取值为: M1,M2: W/L=25/2,M=12 M3,M4: W/L=50/1.8,M=6 M3,M4的Drain端做成ESD结构,需要一定的W,这儿的M3,M4主要是让M1,M2的drain电压相同,因此,W就做的大些,适应ESD结构。由于涉及到低压工作,因此没有采用CASCODE结构。M1,M2属于电流镜匹配,一般设计中W最好不要超过50,M一般要取4的倍数,使得匹配更好,因此取W=25,M=12。这样M1,M2为25/2,M=12。

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