Standard cell placement tile 汉语如何翻译或理解?
如上段话,如何理解placement tile 的含义?
placement tile就是如果metal2是vertical direction routing,那metal2的pitch就是tile的寬度而cell hight就是tile的高度
因为在Routing的时候,每一层Metal wire的space不一定相等,有的线间距离可能大一点,有的距离小一点,不同的metal2 的pitch随着space的不同而不同,现在想知道space tile是不是一个固定的数值还是随着metal2的space不同而不同?
這是要看你的standard cell pin出在哪一層決定的
Tile的大小跟工艺有关,定义在tf文件里面。
Tile “unit” {
width= 2.5
height= 14.95
}
Milkyway读入tf文件,会有这个unit的选项,确定使用这个Tile就会生成unitTile的CEL view,这应该是placement阶段cell移动的最小距离。
个人猜想:如果cellM2出pin,布线的时候打孔到M3,应该可以自己定义Tile,把width改成M3的pitch,毕竟你的走线要以M3的track为准,移动cell后的位置对不准,应该会影响track利用率吧
请多指教
首先感谢楼上两位大侠指点
我也认为Place tile指的是出Pin的那层金属(如果被定义为vertical direction)或者它的上一层金属(如果被定义为vertical direction)的最小Pitch
现在假设出pin的Metal为M2,如果金属2被定义为vertical direction那么Place tile指的就是M2的最小Pitch,如果金属2被定义为horizontal direction,那么Place tile指的就是M3(M2是水平方向,M3为垂直方向)的最小Pitch还请论坛内大侠们不吝指点