有用过SU8负胶的吗？请教点操作上的问题。

以前其实自己在cleanroom里也做过不少光刻，最近在实验室搭了一套简易的做SU8负胶的平台，包括近似平行光LED紫外光源、掩膜夹具、匀胶机、加热平台、通风橱、黄光操作区等，但是操作中同学反映结果不稳定，主要有两个问题，我自己也不是特别确定是什么问题，来本版请教一下，牛人请给指点，不胜感谢！
第一个问题，有时候develop时刻蚀不完全，这种情况对双层曝光的上层尤其常见，留下白色的东西长期去不掉，developer里面多泡半小时都去不掉，这个可以出现在完全没feature的部位，如图，请问这个是什么东西啊？可能什么原因产生的？有什么办法避免？
第二个问题，有时候feature粘不牢，会掉下来，如图，这个有什么可能的原因？有什么诀窍来改进？
我再加些背景信息。我们用的SU8是Microchem的套装，包括2000.x的几种胶，developer，稀释剂，全部常温避光保存，定期分装出小份使用。室内湿度较高，有时候达到68%，我们对这个比较疑虑，听说对操作不利，但是也不清楚究竟会产生那些后果。硅片为大陆买的普通抛光8寸硅片，100晶向，切成小片用，使用前于浓硫酸内浸泡数小时以上，再用纯水洗净甩干，150度烘干后使用。涂胶前不使用HMDS之类的promoter处理，因为SU8的说明书就没说让用。前烘后烘等温度与时间依官方manual，develop时候先用用过的developer，再用新的developer冲净。

 20160614-132835-711.tif

 20160614-133112-567.tif

我提个思路吧 可能是developer没洗干净吧 拿profilometer测一下白色的是什么 有可能不是胶的残留而是水渍。
以前我用5209的时候developer没洗干净就这样 SU8我没曝光用过 帮不上更多了。

操作的环境有保证吗？

环境就是非超净间黄光区，实验台上曝光，通风橱内develop，但是湿度有时较高，达到67-68%最高，这个我们比较担心。还有什么其他要求吗？

谢谢！应该不是developer残留，那个白色的是在developer里面时候就有，而且怎么都泡不掉。我也用过正胶，和负胶差别很大的。

非超净间的话，湿度高，水汽里容易有尘埃凝结核，这个，你懂的...

不好意思，我还是不懂，非超净间的话，湿度高，水汽里容易有尘埃凝结核
然后呢？

然后铁会生锈，石板上会长青苔，连塑料或者玻璃容器壁上都会长出滑滑的东西，
你说wafer上会怎样~

真的吗？wafer不是刚刚从piranha洗液里取出来，纯水洗净后150度烘干然后马上使用吗？wafer上到底会怎样呢？

SU8特别怕水，还是想办法除湿吧

参见楼下大神回复~

我们也是一开始就怀疑这个问题啊。当初在加州的cleanroom，那么干燥还有人提起humidity的影响。。。我当时还半信半疑。。