请教一个生长氧化物薄膜的问题

rt
在塑料上生长一层10nm二氧化硅的话，用什么方法比较合适？
由于塑料熔点低，所以温度最好控制在常温。
目前考虑到的有溅射或ALD，不知道可行否？
最重要的是哪里可以提供这样要求的外加工？谢谢

溅射可以吗？SiO2溅射到塑料表面的时候，动能转化为热能，局部温度也有二三百度的。

个人感觉应该走CVD的路子，但本人没玩过CVD，找玩CVD的问问。
溅射不行吧。