求文献一篇
时间：12-12
整理：3721RD
点击：
标题: Effects of Mask Pattern Geometry on Plasma Etching Profiles
作者: Fukumoto H, Eriguchi K, Ono K
来源出版物: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 卷: 48 期: 9 文献编号: 096001 子辑: Part 1 出版年: SEP 2009
我的邮箱：s_guo@emails.bjut.edu.cn
非常感谢！
作者: Fukumoto H, Eriguchi K, Ono K
来源出版物: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 卷: 48 期: 9 文献编号: 096001 子辑: Part 1 出版年: SEP 2009
我的邮箱：s_guo@emails.bjut.edu.cn
非常感谢！