硅光子带来新的设计挑战

总结

当LVS工具能够发现和提取具有复杂曲线形状的用户定义器件时，硅光子设计人员可以从真正的LVS验证中获得信心，并且提取适当的物理测量器件参数，用于与一个仔细预特性化设备库进行对比。使用这个方法，既定的器件到器件行为可以进行验证，确保不存在意外的短路或开路。通过仔细验证如图所示器件参数与预期的预特性化性能相匹配，电路中每个器件的预期性能得到了进一步的确保。也许最重要的是，意外的设计错误会在结构完好的设计环境中被及早发现并通知用户，从而快速简单地排除故障，节省不必要的生产周期并且大大缩短上市时间。

作者介绍

John Ferguson 是总部位于俄勒冈州威尔森维尔的明导 Calibre DRC Applications 的营销总监。他在1991年获得麦吉尔大学 (McGill University) 物理学学士学位，1993年获得马萨诸塞大学 (University of Massachusetts) 应用物理硕士学位，2000年获 Oregon Graduate Institute of Science and Technology 电气工程博士学位。John 在面向最前沿的集成电路生产制造的物理设计验证领域拥有丰富的工作经验。

Fedor Pikus 是明导 Design to Silicon 部门首席工程科学家。他之前的职位包括谷歌高级软件工程师以及明导 Calibre PERC, LVS, DFM 首席软件架构师。他于1998年加盟明导，从计算物理学学术研究转至软件行业。作为首席科学家，他的职责包括规划 Calibre 产品的长期技术方向、指导和培养从事这些产品工作的工程师、软件设计与架构以及新设计和软件技术的研究。Fedor 在物理、EDA、软件设计和 C++ 语言方面拥有超过25项专利，发表过超过90篇相关论文与会议报告。