微波电路组装技术研究
微波电路的制作一般可分三个阶段:微波器件制作、基板微带线制作并组成功能块、与金属基座连接组成微波电路。微波电路由于作用频率高,其接地要求特别高、接地包括功能块基片接地与功能块与金属基座的接地连接。特别是后者,惯用螺钉连接,由于连接间的空隙,导致功能块间的串扰(一般≥0.5dB),插入损耗增加(一般≥1.4dB),同时也带来了附加电容与振荡。L波段以上电路已无法获得稳定的电路参数,可靠性低。
目前国外已普遍使用钎接方法来实行"大面积钎接"。国内也开始摸索和使用。大面积钎接的主要难点在于金属与陶瓷材料的物理、化学性能差异太大,易造成陶瓷开裂、不良接头、变形等。芯片与微带线互连的长度、拱度,微带线制作的精度等同样是影响微波性能的要素。本文主要介绍笔者与同仁们在这方面的研究成果。
1、接地连接的分析和设计
微波电路的接地连接主要影响电路串扰和插入损耗。电路串扰主要是过长的连接线形成附加电感引起的。插入损耗主要由四分部组成:导体损耗、介质损耗、辐射损耗及制作工艺的损耗。
导体损耗指金属导带与接地金属面对传输信号所造成的插入损耗。介质损耗指电磁场在金属导带和接地面中间的介质中传输,由填充介质引入的插入损耗。焊接缺陷(空洞、孔隙)及其它制作缺陷(介质板、导带¨)均会增加插入损耗[1]。接地连接的设计原则就是就近接地,大面积(全面积)接地。几种典型的接地方式是:
(1)接地金属化通孔:主要连接微带线与基板接地面。可通过孔金属化、空心铆钉、连接销钉的方法实现。如图1所示。
接地通孔设计
空心铆钉
连接销钉
图1 几种典型的接地方式
(a)薄膜接地孔—四周金属化
(b)厚膜接地孔—全孔金属化
(c)多层厚膜,大面积接地,采用网状孔,孔金属化。
三种方法各有各的技术难点,特别是薄膜金属化孔,目前尚处研究阶段,一次成功率仅为90%。采用空心铆钉的方法最可靠,但空心铆钉的制作难度较大。
(2)接地包边:为了更大面积的与接地面连接,在条件允许的情况下,可采用直接用铜箔(厚0.10~0.20mm)连接面。如图2所示。
图2 包边接地示意图
包边接地比较可靠,但只有在孔径及边带尺寸大的地方进行,而焊接工作也往往只能靠人工进行,要求操作工人的熟练程度高。
(3)接地面与接地板的大面积焊接:用于替代螺钉连接的大面积焊接,是保证接地可靠的主要手段。
微波电路中的传输线(微带线)通常在坚固的介质基片(陶瓷、石英……)上用薄膜工艺(蒸发、溅射……)来制作。随着新技术的发展,微波电路微带线也有用厚膜、LTCC(低温共烧陶瓷)技术制作,近年来也出现非Al2O3的软基片复合材料作基片的,但在S波段以上,往往还无法替代陶瓷材料。
陶瓷材料与接地板金属的连接,即接地面与接地板的连接。惯用螺钉连接,除去装配和使用过程中容易造成陶瓷基片碎裂外,它已无法满足微波电路的电、热性能参数的要求,近年来已被软钎接技术所替代。
由于陶瓷与金属的化学、物理焊接性差异极大,特别热膨胀系数的差异,造成焊接及使用过程中瓷片开裂、电路失效。这些问题的研究,将在2、3节中叙述。
2 焊接性能研究
陶瓷基片与金属基座焊接时,考虑到陶瓷金属化(薄、厚膜工艺) 及MIC器件的特性,往往采用软钎接办法来实现。陶瓷基片接地面与载体必须具备优良的软钎接性能。
(1)基片接地面的金属化研究
微波电路基片金属化的主要途径是通过薄膜、厚膜和LTCC共烧来实现。
(a)薄膜制作
微波薄膜电路一般采用CrAu膜系统。Cr层作为过渡层以提高金属与陶瓷板的附着强度,Au作为主导层以满足微波电性能的要求。
采用Au基钎料可以实现CrAu膜与载体的焊接,但Au基钎料价格昂贵,并要在专门的气控炉中进行,工艺复杂,为此需研究适合普通Sn-Pb钎料的金属膜系。
研究设计了CrAu、CrCuAu、CrAuCuAu三种膜系,并通过不同工艺手段制作出不同的膜厚。测试结果见表1。
表1 不同薄膜体系的工艺性能状况
考虑微波电路的综合要求(线厚、精度及焊接性等)选用CrAuCuAu系统作为微波电路的导带及接地面金属化膜。
(b)厚膜制作
微波电路厚膜制作的关键是线条精度,接地面的金属层一般是Au基合金,其中以Au-Pt的耐焊性最好。Au-Pt的耐焊性大于10次,如烧结工艺掌握好的话可达70~80次。Au-Pt膜的可焊性相对来说差一些,但经过适当处理,也能获得较好的可焊性。
(c)LTCC共烧制作
各层之间的通孔、接地面均可用Au制作,整个基板的制作与厚膜制作相同,也以采用Au-Pt膜为主。
(2)载体可焊性镀层研究
根据产品不
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