短沟道MOSFET散粒噪声测试方法研究

近年来随着介观物理和纳米电子学对散粒噪声研究的不断深入，人们发现散粒噪声可以很好的表征纳米器件内部电子传输特性。由于宏观电子元器件中也会有介观或者纳米尺度的结构，例如缺陷、小孔隙和晶粒等，因而也会产生散粒噪声，并且可能携带内部结构的信息。这使人们对宏观电子元器件中散粒噪声研究产生了极大的兴趣。另一方面，随着器件尺寸的不断缩小，MOSFET器件中散粒噪声成分也越来越显著，已经严重影响器件以及电路的噪声水平，人们必须要了解电子元器件中散粒噪声的产生机理和特性，以便更好的抑制器件的散粒噪声，实现器件和电路的低噪声化。
对于短沟道MOSFET器件，在室温条件下，散粒噪声被其他类型的噪声所淹没，一般在实验中很难观察到它的存在。目前国内外对于散粒噪声测试技术的研究取得了快速的进展，但是普遍存在干扰噪声大、测试仪器价格昂贵等问题，难以实现普及应用。文中所介绍的测试系统是在屏蔽环境下将被测器件置于低温装置内，抑制了外界电磁波和热噪声的干扰；同时使用低噪声前置放大器使散粒噪声充分放大，并显著降低系统背景噪声；通过提取噪声频谱高频段平均值，去除了低频1/f噪声的影响，使测试结果更加的准确。使用本系统测试短沟道MOSFET器件散粒噪声，得到了很好的测试结果。文中的工作为散粒噪声测试提供了一种方法，对短沟道MOSFET散粒噪声测试结果进行了讨论。

1 测试原理
对于短沟道MOSFET中散粒噪声的测试，主要影响因素包括：外界电磁干扰、低频1/f噪声、热噪声以及测试系统背景噪声等。散粒噪声属于微弱信号，在实际测试中外界电磁干扰对测试结果影响显著，将整个实验装置放置于电磁屏蔽环境下进行测试，这样就有效地抑制了外界电磁干扰。散粒噪声和热噪声均属于白噪声，在室温下由于热噪声的影响，一般很难测量到散粒噪声的存在，因此需要最大限度降低热噪声的影响。在测试中将待测器件置于液氮环境中，在此温度下器件热噪声相对于散粒噪声可以忽略。对于器件散粒噪声的测试，必须通过充分放大才能被数据采集卡所采集，所以要、求放大器要有足够的增益，同时要求不能引入太大的系统噪声，否则系统噪声会淹没所测器件的散粒噪声，因此采用低噪声高增益的前置放大器。对于短沟道MOSFET，其低频1／f噪声非常显著，它对散粒噪声的影响很大，由于1／f只是在低频部分明显，在高频部分很小，因而可以通过提取噪声高频部分的平均值来降低1/f噪声对测试的影响，使测试结果更加的准确。据此，设计了一种低温散粒噪声测试系统。

2 测试系统设计及测试方案
2．1 测试系统设计
测试系统，如图1所示，主要由偏置电路、低噪声前置放大器、数据采集和噪声分析系统组成。将所有测试设备放置于双层金属网组成的屏蔽室内，可以有效的抑制外界电磁噪声的干扰；测试系统低温装置是一个装有液氮的杜瓦瓶，它可以提供77 K的测试温度，这样就有效的降低了热噪声的影响。Vcc1和Vcc2为电压可调的低噪声镍氢直流电池组，分别为器件提供栅源电压和漏源偏压，电池组不能用直流电源代替，因为直流电源的噪声比较大。


变阻器R1和R2均属于低噪声线绕电位器，最大阻值均为10 kΩ，分别用于栅源电压和漏源的调节。同时为了测试更加准确，变阻器R1和R2也一并置于液氮装置内，以降低其自身热噪声的影响。前置放大器采用美国EG&G普林斯顿应用研究公司制造的PARC113型低噪声前置放大器，放大增益范围为20～80 dB，测试带宽为1～300 kHz，其背景噪声很低，满足实验的测试要求。
数据采集和噪声分析软件为"XD3020电子元器件噪声-可靠性分析系统"软件，它包含5大功能：噪声频谱分析、器件可靠性筛选、噪声分析诊断、时频域子波分析、时域分析。对于散粒噪声分析，主要用到噪声频谱分析模块。
通过具体测试对系统进行了验证。设置栅源电压为0．1 V，漏源电压为0．36 V，为了降低低频1/f噪声的干扰，提取电流噪声功率谱299～300 kHz高频段的平均值。如图2所示，从图中可以看出高频段是白噪声。在室温下，被测器件噪声幅值为1．2×10-15V2／Hz左右；而77 K时，在相同偏置条件下测试了样品的噪声，电流噪声幅值为1．5×10-16V2／Hz左右，对比室温和77 K时样品噪声，可以看出噪声幅值降了一个数量级，通过计算可知热噪声被减少大约90％，可见77 K时热噪声被明显抑制。同时测量了低温下系统的背景噪声，它的噪声幅值为4×10-17V2／Hz左右，而低温下样品的噪声幅值为1．5×1O-16V2／Hz，因此低温下系统背景噪声相对较小，可以忽略。本测试系统能满足低温下散粒噪声测试的要求。