台积电：2016我投多少钱？反正不是小数目

为加快10奈米及7奈米等先进制程微缩速度，同时建立整合扇出型晶圆级封装（InFO WLP）后段封测产能，台积电（2330）共同执行长刘德音日前接受路透社访问时表示，明（2016）年度的资本支出将"不会是个小数目"，投资动作不会趋于保守。据设备业者推估，台积电明年资本支出可望突破100亿美元、创下史上新高。

除了台积电明年资本支出将明显扩大，半导体龙头英特尔也有同样计画。英特尔虽然明年处理器主流制程仍以14奈米为主，但在上周召开分析师大会，已宣布2016年资本支出将达100亿美元规模，主要用在扩建10奈米先进制程产能。业界评估，英特尔订下"100亿美元"的目标，就是锁定台积电而设。

台积电资本支出及预估

今年下半年半导体生产链持续去化库存，台积电二度下修今年资本支出至80亿美元。台积电财务长何丽梅在日前法说会中表示，由于台积电的投片及生产效率提升，加上投资计画上的改变，及部分设备采购时间延后到明年，才决定减少今年资本支出预算，但不完全是看坏半导体景气才降低资本支出。

台积电16奈米制程产能在今年底前可望完成建置，而根据设备业者指出，台积电明年上半年16奈米接单几乎满载，除了为苹果代工A9/A9X应用处理器，也接获华为、高通、赛灵思等客户新订单，而苹果下一代A10处理器也将在明年上半年开始量产投片。

为了对抗来自英特尔及三星的竞争，台积电加快先进制程研发及量产时程，明年的投资计画将锁定在10奈米及7奈米产能的建置。台积电竹科12寸厂Fab12第7期已开始试产10奈米，中科12寸厂Fab15第5期及第6期工程正在加速晶圆厂的兴建，预计2017年底10奈米总月产能将上看6万片。

由于台积电要以最快速度进入7奈米世代，现在正在赶工中的10奈米生产线，有高达9成的设备将可直接支援7奈米，等于是以最小的投资来建立最具效益的产能。不过，台积电10奈米仍采用多重曝光（multi-patterning）浸润式微影技术，先进制程设备价格昂贵，因此明年资本支出将高于今年。

根据英特尔的规画，摩尔定律仍然有效，10奈米Cannon Lake处理器将在2017年开始进入量产阶段，在10奈米量产后的1.5～2年之后，将进入7奈米世代，并且将首度采用极紫外光（EUV）微影技术。