求助 关于MIM cap

在同一工艺下，mim cap的单位面积值是固定的吗?比如我现有的工艺是 2fF/um^2，如果我希望mim cap变为1fF/um^2，查了一下发现MIM cap上层的metal是最上层的，下层metal是最高层的metal，请问这两个典型值可以在同一工艺库下实现吗?不同的数值各自优劣是什么?谢谢~

最上?最高?一共几层METAL? 能用M1 ，M2 。TME描述吗?

是单位容值吧，工艺厂决定，工艺厂提供多大的就是多大的。
有些工艺会提供两个电容值，所以在同一工艺下可以实现两个电容值，工艺厂通过改变 中间介质，调整容值。但是一个芯片只能选择一个电容值的mim。
我的经验，对于mim电容，两种容值的电容，特性上是差不多的。

工艺厂提供两种容值的电容的选择，但是同一个芯片中只能选择一种容值的电容，这个在装PDK的时候就会有提示

不能，不同容值精度要求不同。具体看model