Process中的Lot-to-Lot variation是什么？

25枚wafer称作一个lot,
由于工艺的复杂性，lot和lot之间会有参数的差异等。
工艺越稳定，差异会越小。

太谢谢啦！
多谢多谢。呵呵。能进一步问个问题么，嘿嘿：
为什么把25个算作一批呢?意思是每25个WAFER一组，看和下一组的25个wafer之间的区别?
如果本批次可能就需要12个WAFER，那么就不需要看lot to lot variation了?
--------问题实在是初级，不好意思哈

为什么不是23，26呢?
这个俺也不清楚，。
如果你就流12片的话，那就看不到这个差异性了。可以看到wafer 和wafer的差异了。
但是，对于一个产品要量产的话，一般还是需要看看的Lot-lot的，呵呵，祝好！

thank you~

25片或者24片一个lot，是原来早期的设备，主要是热氧化，清洗，最多一次可以放25片同步完成这个工艺。后面就逐步这样子了。
现在很多都是单步只能1/2片wafer。 很多精密工艺，如litho/etch，每个lot后面都需要处理一下，再进另一个lot，否则不能保证很干净。

高手啊 。。