详解AWR2011全新设计套件 8大亮点

仿真状态管理器（SSM）通过被称为"检查点"的技术跟踪、管理、显示当前或者任何以前的仿真状态的结果，此技术可以恢复用户以前断点的仿真结果。所有的仿真结果存储在Data Sets中并由SSM管理，因此用户可以控制在设计过程中得到的多个历史仿真结果。这可使用户在不重新进行新的仿真的基础上得到以前的数据。SSM在支持将每一次的仿真结果存储到Data Sets同时，还自动追踪符合现阶段仿真的数据，减少了潜在的错误。结果与设计同步，用户可以确保原理图和版图正是在EM中所仿真的。数据定位的功能允许用户覆盖同步数据并利用先前的设计状态进行假设分析。 

亮点之五：参数化EM

AWR2011还包含了基于图形和参数化及原理图的EM图形。边界的处理也参数化的包含在AWR统一数据模型（UDM）结构中，并且在设计的整个过程保持同步。这允许EM队列被调用，并可由基于多个图形、方程和规则的参数模型所控制。 

另外，一个"过程感知"的几何处理算法可以自动的将可进行掩膜的边界转化为可进行EM仿真的版图，同时自动进行诸如过孔创建等需要手动进行的边界修改。当应用于AWR的EM提取流程技术后，"过程感知"处理过程减少了手动的步骤，使EM提取流程更快速和无缝。 

亮点之六：成品率分析和优化

AWR2011增强的成品率分析和优化分析（图5）使设计者能充分利用参数化的EM图形及其他图形和几何边界。用户自定义层可将与制造相关的效应：如掩膜对齐和蚀刻误差计算在内。通过利用SSM功能用户可以发现极端状况，扫描制造相关的参数，并监控整个电路的线性、谐波平衡或者时域的电路仿真性能。即使是诸如误差矢量幅度（EVM），相邻信道功率比（ACPR）或者误码率（BER）等系统级参数也可进行成品率分析和优化。

图5：在AWR2011中，EM成品率分析，扫描，优化和DFM也被非常好地结合成一个套件。 

亮点之七：电路包络仿真

电路包络仿真（图6）为应用高阶仿真技术和正交频分复用技术的无线通线功放设计者提供了极大的方便。当其在Microwave Office® 和 Visual System Simulator™ (VSS)软件中所使用，设计者能设计出高线性和高效率的功放，由于这两个参数相互冲突，如果不应用此项技术，完成此功放的设计是不可能的。

图6：包络仿真器可使设计者模拟电路级的时变现象，如依赖于动态偏置或是包络追踪原理的记忆效应和复杂的数字预失真。 

AWR的电路包络仿真技术能高效的在时域中处理调制信号并在频域中处理载波信号。由于结果是一个基于时间变化的频谱，因此允许设计者能对信号的每个谐波的调制信息（如幅度和相位）进行评估，这使得在设计流程的早期进行关键性能如：EVM和ACPR的分析成为可能。 

亮点之八：其他重要特性

除了上述以设计者效率为中心性能的提高，AWR 2011还有其他新特性，可加快设计步伐，使设计者在第一时间里成功实现设计工作。 

用户自定义参数化模型：应用EM原理图，参数化单元或"静态"图形的用户自定义模型可被用于参数化EM模型的创建。图形操作功能包含布尔运算，图形调整等远远超过了诸如使图形大小变化和多边形长宽比变化的功能。设计者可定义参数化模型并按需进行仿真来创建模型，仿真结果可被插值以便在调试状态或者基于快速的电路优化所利用。 

子电路参数化：此项功能允许将Microwave Office®软件中的非线性电路在一个层次上将参数传递以模块的形式传递给VSS软件，将电阻值或电感的Q 值将如何影响系统级的设计完全的展示给用户。 

AWR Connected for Antenna Magus产品：此工具可以快速、简便的评估多个天线设计，使用户更加深入的了解其设计。Antenna Magus内全面的数据库使得设计过程--从最初的设计（综合）到最终的自定义阶段（电路/电磁仿真）流水线化。 

AWR Connected for CapeSym SYMMIC产品（图7）：能够发现并移除GaN, GaAs和硅射频功率晶体管和MMIC中的热集中点，这对性能、成品率和器件的寿命至关重要。应用此工具，设计者可获知并查看热与电性能之间的依赖关系，并对其进行定位。

图7：应用AWR Connected for CapeSym SYMMIC产品，设计者可获知并查看热与电性能之间的依赖关系，并对其进行定位。 

射频短路/开路感知查看器：此工具允许在设计流程的早期减少布线和版图中的错误，在设计流程的早期进行此项工作可大大减少成本。 

VSS雷达库（图8）：不仅提供了雷达系统信号处理流程的详细行为级模型还提供了由综合或者测量所得的3D天线方向图。此软件与LabVIEW和 MATLAB集成在一起，因此可进行自定义的信号处理算法。