晶体三极管学习笔记
时间:11-16
来源:互联网
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【晶体三极管的结构和符号】
1】晶体管结构
1)发射区: 发射区掺杂浓度很高,用于发射自由电子
2)基区: 基区很薄而且杂质浓度很低,发射区发射扩散过来的自由电子一部分将和基区的空穴中和
3)集电区: 面积很大,自由电子经过基区后,多下来的自由电子由于漂移运动将到达集电区
2】晶体管的符号
【晶体管的电流放大作用】
1】晶体管内部载流子的运动
1)VCC电压大于VBB,使得发射结正向偏置,集电结反向偏置(上边是集电结)
2)发射结加正向电压,扩散运动形成发射极电流IE,注意,发射区杂质浓度高,所以扩散出来的自由电子很多
3)扩散运动到基区的自由电子与空穴的复合运动形成基极电流IB,由于电源VBB的作用,复合运动源源不断
4)集电结加反向电压,漂移运动形成集电极电流IC,注意,虽然自由电子量很大,但是由于基区是P型,所以在基区,自由电子仍然是少子
5)其他电流比较小,可以忽略
2】晶体管的电流分配关系
从图中容易看出以下电流关系
IE = IEN + IEP = ICN + IBN + IEP
IC = ICN + ICBO
IB = IBN + IEP - ICBO
从外部看: IE = IC + IB
3】晶体管的放大系数
【晶体管的共射特性曲线】
该电路称为基本共射放大电路
1】输入特性曲线
输入特性曲线描述:压降UCE一定的情况下,基极电流IB与发射结压降UBE之间的函数关系
1)当UCE = 0 时,相当于集电极和发射极短路,因此,输入特性曲线与PN结伏安特性相类似。
2)由发射区注入基区的非平衡少子(自由电子)有一部分越过基区和集电结形成集电极电流IC,使得在基区参与复合运动的非平衡少子随
UCE增大而减少,要获得同样的IB,就应该加大UBE,所以UE增大曲线右移
3)当UCE增大到一定值后,集电结的电场已经足够强大,可以将发射区注入基区的绝大部分非平衡少子收集到集电区去,因此再增大UCE,
IC也不明显增大了
2】输出特性曲线
输出特性曲线描述:基极电流IB为一常量时,集电极电流IC与管压降UCE的函数关系
1)当UCE从零逐渐增大时,集电结电场随之增强,收集基区非平衡少子的能力逐渐增强,IC增大
2)当UCE增大到一定数值时,集电结电场足以将基区非平衡少子的绝大部分收集,UCE再增大,IC几何不变
3)截止区:发射结电压小于开启电压UON,集电结反向偏置即UCE > UBE
4)放大区:发射结正偏,集电结反偏,即UBE > UON 且 UCE >= UBE
5)饱和区:发射结与集电结都正偏,即UBE > UON,且 UBE > UCE
6)饱和的现象:UBE增大时,IB随之增大,但IC增大不多或基本不变
【晶体管的主要参数】
1】晶体管结构
1)发射区: 发射区掺杂浓度很高,用于发射自由电子
2)基区: 基区很薄而且杂质浓度很低,发射区发射扩散过来的自由电子一部分将和基区的空穴中和
3)集电区: 面积很大,自由电子经过基区后,多下来的自由电子由于漂移运动将到达集电区
2】晶体管的符号
【晶体管的电流放大作用】
1】晶体管内部载流子的运动
1)VCC电压大于VBB,使得发射结正向偏置,集电结反向偏置(上边是集电结)
2)发射结加正向电压,扩散运动形成发射极电流IE,注意,发射区杂质浓度高,所以扩散出来的自由电子很多
3)扩散运动到基区的自由电子与空穴的复合运动形成基极电流IB,由于电源VBB的作用,复合运动源源不断
4)集电结加反向电压,漂移运动形成集电极电流IC,注意,虽然自由电子量很大,但是由于基区是P型,所以在基区,自由电子仍然是少子
5)其他电流比较小,可以忽略
2】晶体管的电流分配关系
从图中容易看出以下电流关系
IE = IEN + IEP = ICN + IBN + IEP
IC = ICN + ICBO
IB = IBN + IEP - ICBO
从外部看: IE = IC + IB
3】晶体管的放大系数
【晶体管的共射特性曲线】
该电路称为基本共射放大电路
1】输入特性曲线
输入特性曲线描述:压降UCE一定的情况下,基极电流IB与发射结压降UBE之间的函数关系
1)当UCE = 0 时,相当于集电极和发射极短路,因此,输入特性曲线与PN结伏安特性相类似。
2)由发射区注入基区的非平衡少子(自由电子)有一部分越过基区和集电结形成集电极电流IC,使得在基区参与复合运动的非平衡少子随
UCE增大而减少,要获得同样的IB,就应该加大UBE,所以UE增大曲线右移
3)当UCE增大到一定值后,集电结的电场已经足够强大,可以将发射区注入基区的绝大部分非平衡少子收集到集电区去,因此再增大UCE,
IC也不明显增大了
2】输出特性曲线
输出特性曲线描述:基极电流IB为一常量时,集电极电流IC与管压降UCE的函数关系
1)当UCE从零逐渐增大时,集电结电场随之增强,收集基区非平衡少子的能力逐渐增强,IC增大
2)当UCE增大到一定数值时,集电结电场足以将基区非平衡少子的绝大部分收集,UCE再增大,IC几何不变
3)截止区:发射结电压小于开启电压UON,集电结反向偏置即UCE > UBE
4)放大区:发射结正偏,集电结反偏,即UBE > UON 且 UCE >= UBE
5)饱和区:发射结与集电结都正偏,即UBE > UON,且 UBE > UCE
6)饱和的现象:UBE增大时,IB随之增大,但IC增大不多或基本不变
【晶体管的主要参数】
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