offset的sigma问题？

下面请教大家一个问题：
为什么我改变输入管的尺寸（保持总的W/L不变），比如
（1） W/L=20u/1u M=8总的W/L=160u/1u
（2） W/L=40u/1u M=4总的W/L=160u/1u
（3） W/L=80u/1u M=2总的W/L=160u/1u
仿真输入的offset，按理说输入管的面积不变，offset应该不会变化。
其中monte的次数为300次。
仿真结果为：（3）的offset的sigma最小，（1）的offset的sigma最大，这是为何?
如下图所示：

dc分析：
输入inn、inp的之流电压为700mv，输入对管均在饱和区。
3种case下，输入管的gm均不变。扫描的电压范围为（700mv-30mv，700mv+30mv）
望各位大侠支招解答小弟的疑惑！

好问题。你看看model文件是不是在W不同的时候，用的model不一样

恩，真实结果应该相差不大，由于model 的参数跟W以及L相关，有少许差别。
你的仿真我觉的有点问题，就是当你人为加入offset时候，其实已经改变了对管的DC点 （非闭环loop），所以需要你建立一个闭环模型，然后验证你关心的问题。

简单的方法，仿真时候 运放 正负端接一样的DC=0.7V，然后测量 输出任意一端电压 做 MC即可比较