请教cmos管子宽度意义

记得看书的时候，讲到gate sizing的时候需要匹配最差情况下pull-up和pull-down的电阻，如下图，
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但是在真正设计电路的时候（比如在cadence或Hspice中），pmos和nmos的尺寸却不是按照这个尺寸比例，比如用spice模拟时如果宽度选择一样的话输入和输出延迟差异很大，但按大概2:1的比例则输入输出很接近，请问这两种宽度的关系是什么?这里有些晕，请教各位，
谢谢，

这种问题，自己看书就能找到答案，怕是微电子专业的大学生的基本常识吧

nmos和pmos的多子类型不一样一个是电子，一个是空穴，他们的迁移率不一样，即电流计算公式中的u，一般工艺差不多2:1的关系（我确定不是这个值，不过约等于）所以，pmos的尺寸大一点（约取nmos的两倍）。

就是空穴和电子的迁移率的比例接近1:2

十分感谢各位，
书上感觉说的不是很细，有些点没有串起来，总觉得比较零散，在下用spectre模拟的时候inverter确实是按照pmos和nmos宽度比例2:1左右（180nm工艺，pmos 900nm nmos 400nm左右时），和下图1相符；而nand2（同一个工艺下模拟，pmos为800nm nmos为400nm左右）却宽度比仍旧为2:1左右，和下图2不符。不知在下是否把管子宽度的问题搞混了，或者说所有设计都需按照2:1的比例进行，然后再微调，不需要匹配pull-up/pull-down么?测试标准是输入延迟和输出延迟差异越小越好，按上述尺寸跑仿真的结果是非常接近的，也即都是2:1左右结果最好，nand2调整pmos和nmos相等的情况下差异却非常大，

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在下本科不是这个专业的，的确比较晕，可否推荐本您认为讲的比较清楚的参考书?谢谢，