场氧隔离 氮化物
时间：10-02
整理：3721RD
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在工艺上，氮化物能不能代替氧化物做成场氧
只知道氮化硅和硅之间有应力，要加缓冲层。如果氮化硅作场氧，应力会不会是个问题。不过氮化硅在应力硅技术也可以用，不知道厚度。仅供参考。
应力硅技术中，是在器件表面淀积氮化硅膜产生应力吧。你说的氮化硅是用做场氧了吗
俺没见过直接用氮化物做场隔离。氮化硅在LOCOS用于定义有源区，场隔离还是SiO2;栅极结构中也有氧化氮的应用。
栅极结构是氧化氮还是氮化硅呢
什么是Flash浮栅
栅氧化层中有氮化物的应用。high K 调整阈值什么的。不好意思，学艺不精。
谢谢