TSMC035GESI工艺的ASSURA验证问题
时间:10-02
整理:3721RD
点击:
最近遇到个关于TSMC035GESI工艺的ASSURA验证问题:
带MM电容(3P4M工艺)的时候,ASSURA 不能通过,经过多方面实验后,发现需要在MM电容的RFDUMMY层外0.2U以内打孔,通过其他层次金属连接,才能通过LVS验证,但是超出这个范围,或者直接通过顶层金属连线连接,则不能通过验证。
各位大虾请教下,这个是什么原因,这样做有什么好处,验证文件的语句应该是怎么样的呢?ASSURA的配套文件蛮多的。
带MM电容(3P4M工艺)的时候,ASSURA 不能通过,经过多方面实验后,发现需要在MM电容的RFDUMMY层外0.2U以内打孔,通过其他层次金属连接,才能通过LVS验证,但是超出这个范围,或者直接通过顶层金属连线连接,则不能通过验证。
各位大虾请教下,这个是什么原因,这样做有什么好处,验证文件的语句应该是怎么样的呢?ASSURA的配套文件蛮多的。
Good info