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请教EEPROM设计高手

时间:10-02 整理:3721RD 点击:
本人最近在做一个EEPROM电路设计项目,由于工艺厂只提供了进过“擦”或者“写”操作的MOS管仿真模型,利用模型可以仿真“读”操作结果。而对于“写”和“擦”操作如何仿真呢?难道只是看看作用于存储单元的各个端口电压是否正确就可以了吗?急切期待高手的指点!

同问,请问小编的问题解决了吗?

小编的理解没错,看各端口电压就可以了。charge pump要加一个负载。


谢谢您的回复,但是我还想请教你一下,如何仿真擦或者写操作,是否将存储单元去除才能仿真呢?

是的,一般cell没有擦除用的model,仿真时不用加 cell array


请问single poly EEPROM 的CELL单元的读写操作应该如何仿真?这种结构的CELL单元是用两个电容连接在一起,比如将两个PMOS管以电容方式相接,两个管子的栅端相连,来模仿浮栅结构。
但不知道这种结构怎么去仿真它的读写操作?

期待问题解决,,,


这种cell没有用过,其实也没见过。我想提供这种cell的技术方应该要提供写cell时其相应的端口需求吧,真正去建模型还是比较困难的;读取的模型应该好建一些,没有模型至少有电参数,SA电路通常是和reference cell去比的,模型不准问题不大。


谢谢你的回答。因为这种以两个电容连接方式的mos管模仿浮栅管,可以用标准的cmos工艺实现,可以节约成本。有文献报道过这种结构的EEPROM,但都没有讲这种CELL在相应的端口上加多大电压进行读写操作的模拟仿真。所以很困惑。


我猜想你所描述的是一种标准逻辑工艺下实现的NVM,比如chings 的 MTP。理论上的确可以实现,因为它兼容标准工艺,流片成本低,所以有它的应用市场。可一方面它的性能往往没有真正的EEPROM或eFlash好,另一方面单元面积比较大,容量大一些时就并不合算了。所以目前的应用并不广泛。
这种cell的擦写电压和擦写后cell的特性,要去作实验尝试。一般情况下擦写电压要大于7V,擦写时间会比较长(数十毫秒数量级以上),这导致它受限于工艺的击穿电压,不是每个标准工艺上都可以调试成功的。
paper上讲原理比较简单,可实际上工程上真正作出来不是件容易的事。


那这种基于标准CMOS工艺的NVM只能根据工艺估计擦写电压,流片过后再进行验证了?
请问国内除了SIMC,其他哪些公司能提供.18um的MTP(或EEPROM)工艺的PDK?(就目前了解的情况看,华润上华无此工艺的MTP工艺,TSMC只提供IP,不提供PDK)


如果没有相关的数据(database),那只能通过流片去尝试了,当然,paper给出的数据和公式可以作参考。
这个东西,如果在学校或者研究所做做研究还可以,工程界就不要去玩了,折腾好久,也赚不了钱。
如果用现成的,直接向foundry的销售打听就可以了。
哪个foundry能作,我不清楚。

shou jiao le

现在都是卖IP,PDK很少了吧~

verilog-A

请高手赐教,现在芯片流片回来测试有问题,电荷泵高压泵不上去,并且外供高压耶供不进去,不知道哪里出了问题?感觉耶没有到底的泄放通路啊?

学习了。


breakdown了吧

电荷泵的输出只能输出9V,要是breskdown的话电荷泵应该不会有高压输出而是直接降为0.此外高压输出采用的普通模拟PAD,是不是一般高压输出PAD需要单独画而不是直接调用库里的PAD呢?

说说你的电荷泵结构? Dickson? 电荷泵驱动时钟的频率是多少? 电荷泵输入电压多少哦,负载电容多大?

求教可以25AA系列EEPROM的读写程序发一个啊啊?

嗯,这个问题问得好

Why not use verilogA for building the EEPROM cell BHV model.
Then you can get a loop, erase, write and read back.

同惑,求解



最近也看了一些文献中提到的single poly EEPROM ,有个问题请教一下:   
single poly 的EEPROM单元没法仿真,只能流片之后来测试,是吗?


我想请问一下,现在的IP怎么提供的,比如说串行,并行,要不要自己再去设计电荷泵,还是直接提供了一个具有像芯片一样功能的。小弟刚接触,很多不懂!

Flash 存储都属于 NVM吧

learing !

楼上各位高手   读写电路,尤其是CG 控制  可否给各电路参考  。

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