mos管中scc,sca和scb代表什么参数
Sti或者ose,记不清哪个了
没记错的话是od到well边沿的距离,应该是应力或者掺杂浓度梯度的函数因子,具体去查文档关于WPE effect 的部分。对vth的影响大概会有50到100mv的样子,如果差别太大的话需要检查一下schematic的提取参数,没设好会出问题。
确实是跟阱有关,但是不知道你指的od是什么意思?现在仿真发现,同一个PMOS管,如果衬底的contact 孔放在上下和左右而提取出来的sca参数会有差异,对于正比管,差异不大,引起的阈值变化也在10mV以内;但是对于倒比管,sca的差异会特别大,阈值变化超过100mV。你指的wpe effect在什么文档中可以查到?
google 到了
Table 52 Well-Proximity Effect Model Parameters Parameter
Description
Default Value
Unit
SCA
Integral of the first distribution function for scattered well dopant
0
SCB
Integral of the second distribution function for scattered well dopant
0
SCC
Integral of the third distribution function for scattered well dopant
0
SC
Distance to a single well edge
0
m
感谢小编,谢谢分享
tongqiu
请问,在LVS 中是如何提取SCA,SCB,SCC的呢?您知道提取的算法吗?谢谢!
感谢小编问这么高深的东西,搞得我也知道了
