重新理解三极管的关键问题

为什么会出现这种现象呢？这主要是因为P 区除了因“掺杂”而产生的多数载流子“空穴”之外，还总是会有极少数的本征载流子“电子”出现。N 区也是一样，除了多数载流子电子之外，也会有极少数的载流子空穴存在。PN 结反偏时，能够正向导电的多数载流子被拉向电源，使PN 结变厚，多数载流子不能再通过PN 结承担起载流导电的功能。所以，此时漏电流的形成主要靠的是少数载流子，是少数载流子在起导电作用。反偏时，少数载流子在电源的作用下能够很容易地反向穿过PN 结形成漏电流。漏电流只所以很小，是因为少数载流子的数量太少。很明显，此时漏电流的大小主要取决于少数载流子的数量。

如果要想人为地增加漏电流，只要想办法增加反偏时少数载流子的数量即可。所以，如图B，如果能够在P区或N 区人为地增加少数载流子的数量，很自然的漏电流就会人为地增加。其实，光敏二极管的原理就是如此。光敏二极管与普通光敏二极管一样，它的PN 结具有单向导电性。

因此，光敏二极管工作时应加上反向电压，如图所示。当无光照时，电路中也有很小的反向饱和漏电流，一般为1×10-8 —1×10 -9A(称为暗电流)，此时相当于光敏二极管截止；当有光照射时，PN 结附近受光子的轰击，半导体内被束缚的价电子吸收光子能量而被击发产生电子—空穴对，这些载流子的数目，对于多数载流子影响不大，但对P 区和N 区的少数载流子来说，则会使少数载流子的浓度大大提高，在反向电压作用下，反向饱和漏电流大大增加，形成光电流，该光电流随入射光强度的变化而相应变化。光电流通过负载RL 时，在电阻两端将得到随人射光变化的电压信号。光敏二极管就是这样完成电功能转换的。光敏二极管工作在反偏状态，因为光照可以增加少数载流子的数量，因而光照就会导致反向漏电流的改变，人们就是利用这样的道理制作出了光敏二极管。既然此时漏电流的增加是人为的，那么漏电流的增加部分也就很容易能够实现人为地控制。

2、强调一个结论：

讲到这里，一定要重点地说明PN 结正、反偏时，多数载流子和少数载流子所充当的角色及其性质。正偏时是多数载流子载流导电，反偏时是少数载流子载流导电。所以，正偏电流大，反偏电流小，PN 结显示出单向电性。特别是要重点说明，反偏时少数载流子反向通过PN 结是很容易的，甚至比正偏时多数载流子正向通过PN 结还要容易。为什么呢？大家知道PN 结内部存在有一个因多数载流子相互扩散而产生的内电场，而内电场的作用方向总是阻碍多数载流子的正向通过，所以，多数载流子正向通过PN 结时就需要克服内电场的作用，需要约0.7伏的外加电压，这是PN 结正向导通的门电压。

而反偏时，内电场在电源作用下会被加强也就是PN 结加厚，少数载流子反向通过PN 结时，内电场作用方向和少数载流子通过PN 结的方向一致，也就是说此时的内电场对于少数载流子的反向通过不仅不会有阻碍作用，甚至还会有帮助作用。这就导致了以上我们所说的结论：反偏时少数载流子反向通过PN 结是很容易的，甚至比正偏时多数载流子正向通过PN 结还要容易。这个结论可以很好解释前面提到的“问题2”，也就是教材后续内容要讲到的三极管的饱和状态。三极管在饱和状态下，集电极电位很低甚至会接近或稍低于基极电位，集电结处于零偏置，但仍然会有较大的集电结的反向电流Ic 产生。

3、自然过渡：

继续讨论图B，PN 结的反偏状态。利用光照控制少数载流子的产生数量就可以实现人为地控制漏电的大校既然如此，人们自然也会想到能否把控制的方法改变一下，不用光照而是用电注入的方法来增加N 区或者是P 区少数载流子的数量，从而实现对PN 结的漏电流的控制。也就是不用“光”的方法，而是用“电”的方法来实现对电流的控制（注2）。接下来重点讨论P 区，P 区的少数载流子是电子，要想用电注入的方法向P 区注入电子，最好的方法就是如图C 所示，在P 区下面再用特殊工艺加一块N 型半导体（注3）。图C 所示其实就是NPN 型晶体三极管的雏形，其相应各部分的名称以及功能与三极管完全相同。为方便讨论，以下我们对图C 中所示的各个部分的名称直接采用与三极管相应的名称（如“发射结”，“集电极”等）。再看示意图C，图中最下面的发射区N 型半导体内电子作为多数载流子大量存在，而且，如图C 中所示，要将发射区的电子注入或者说是发射到P区（基区）是很容易的，只要使发射结正偏即可。具体说就是在基极与发射极之间加上一个足够的正向的门电压（约为0.7 伏）就可以了。在外加门电压作用下，发射区的电子就会很容易地被