NI PXI矢量网络分析仪，帮助半导体和移动设备制造商降低测试成本

美国国家仪器公司（National Instruments, 简称NI）近日发布了NI NI PXIe-5632 VNA，它经进一步优化，可帮助工程师满足日益复杂的射频测试要求，而其成本、尺寸和使用所需时间仅是传统堆叠式解决方案的极小一部分。 新的PXIe VNA基于创新型的双源架构，频率范围为300 kHz至8.5 GHz，拥有独立调整的源代码和源接入循环，可适用于众多不同的测量应用。

"NI在射频和微波仪器上持续大力投入，将PXI的应用领域扩大至高端应用。"NI射频研究和开发副总裁Jin Bains表示， "NI PXIe-5632矢量网络分析仪功能丰富，可显着降低网络测量成本，尤其是针对那些需要高度精确、快速和小封装测量的大批量自动化测试的应用。"

产品特征
• 双端口，3槽PXI Express矢量网络分析仪，频率范围为300 kHz至8.5 GHz 。
• 功率范围较宽，为-30dBm到+15 dBm，调节步长为0.01dB，用于测量有源设备的压缩和S-参数。
• 带有源接入循环的双源架构，可实现脉冲S参数测量和扩展源功率范围。
• 频偏功能使用独立调整的源代码，实现对频率转换器件和热S-参数的测量。
• 通过NI LabVIEW、ANSI C和.NET等行业领先的编程接口，可简化编程并加快测试开发速度，同时保证射频测量质量。

关于NI
从1976年开始，美国国家仪器就为工程师和科学家提供各种工具来加速生产、创新和探索。NI的图形化系统设计方法为工程界提供了一个将软硬件结合在一起的平台,有助于加速测量和控制系统的开发过程。公司的长期愿景和通过技术提高社会发展水平的理念为客户、员工、供应商和股东的成功提供支持。