求教大神：Oxide Uniformity的问题。。
时间：10-02
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我是炉管部的，有一管产品的控片表现出oxide uniformity很不好，主要表现在wafer edge。
Recipe 的 structure 是 1100C， O2/N2/TLC 两个小时。
厚度大概是800A。
产品TEM了，表现正常，确定为控片或产品的loading effect所致
我需要一些技术解释。
“是什么原因造成控片uniformitybuhao
请问谁有上述的经验，请分享。
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