monte carlo中的process和corner究竟分别代表什么

老生常谈的话题，但是还是想请教一下各位，我的理解是这样的，还请批评指正。Monte Carlo中的PROCESS是否是由于工艺的偏差所导致的电路性能的变化。而corner表征了晶圆自身存在的工艺特性，ff、ss等corner代表了极限情况。
同一个晶圆上应该是同一种corner，Monte Carlo的意义是在这种特定corner下分析工艺偏差所导致的成品率的问题。
那么在仿真的时候应该是先仿真corner，再在每个corner下仿真Monte Carlo。
不知以上理解是否有误，还请不吝赐教。

请回答如何在每个Corner下仿真monte carlo

需要工艺支持
按理说需要在corner下再看mismatch的
可惜smic只有mc一个corner
而tsmc有globallocal等等等一大堆用于mc的corner

how to learn it ?！

who can answer it?