请教有关monte carlo仿真的理解
时间:10-02
整理:3721RD
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对于Monte carlo分析,我还是一知半解的。对于仿真,一定需要工艺厂提供的model library文件,该文件定义了所有期间的各种参数,所以通过corner仿真,应该就能分析出某个设计是否有问题的情形。那么Monte carlo仿真做的又是什么事呢?比如analysis variation选项的process only,mismatch only以及process and mismatch,又怎么理解呢?process only指的是不同die上的偏差,mismatch only指的是同一个die上的器件失配,疑问是,不管是同一die还是不同die的失配,corner仿真不是都仿真到了吗?所以我的问题是,做Monte carlo仿真的意义是什么?Monte跟corner分析有什么区别?他们分别该怎么理解?
corner change the parameter for all the transistors,monte carlo is random
Hi Feynmancgz. I found your head photo is the professor in KU Leuven. Do you know him? Because I am going to apply for his doctoral opening, but he never replys my emails. If you know him, can you help me, please? I want to focus on power management ic design, and I have written a research proposal about fully integrated inductive DC-DC converter.
Thank you very much. Looking forward to hearing from you. You can also contact me through email: 53894265@qq.com.
这么好的帖子,顶一下。
希望能够有大牛回答一下,对于设计仿真,MC主要应用在哪里?假如在这个领域应用MC,为什么corner仿真不能实现呢?
他告訴你一個電路在製程製作出來會產生的誤差有多少
而這個誤差值是否可以滿足你的規格
mc is random !