两级全差分放大器monte carlo仿真问题
时间：10-02
整理：3721RD
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本人在做两级全差分放大器设计时，就是普通的两级opamp结构，在进行corner仿真时，放大器DC增益变化不大（3-4dB）。但是在进行monte carlo仿真时(process&mismatch），此时放大器的DC增益变化很大（20dB的变化）。请问有什么比较好的办法可以解决这个问题吗?
monte carlo仿mismatch
仿过mismatch，但是增益变化范围很大，工艺库的mismatch应该是一个很大范围的偏差吧
工艺库的mismatch ！