ro曲线仿真结果与EE240明显不同
时间：10-02
整理：3721RD
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最近在学习EE240的课件，安装的仿真软件用NCSU 0.6μm模型在仿真Av时仿真出来的图形与课件上的图形明显不一致，因为对MOS的理解太浅，对这样的区别无法理解，不清楚是仿真原因导致?模型区别?
仿真电路如下：
仿真图中MOS的Vth=0.73 Vgs=0.93 ，Vds扫描从0到3.3V
仿真结果如下：
仿真输出设定为ro=1/gds
根据EE240第四讲小信号模型给出的ro图形如下：
请坛友前辈们能帮忙解释一下。
仿真电路如下：
仿真图中MOS的Vth=0.73 Vgs=0.93 ，Vds扫描从0到3.3V
仿真结果如下：
仿真输出设定为ro=1/gds
根据EE240第四讲小信号模型给出的ro图形如下：
请坛友前辈们能帮忙解释一下。
0.18是短沟道和0.6当然不一样
短沟道，vds太高会有punch through，输出阻抗下降也正常
model 不全
多谢指点
多谢指点