有关cadence工艺库的几个小问题

最近刚开始学习cadence软件，对工艺库的几个问题不是特别明白，想请教一下各位老师。
【第一】
每次创建一个新的library文件夹的时候，都会弹出以下两个图片所示的。一般我们都是默认点击“attach……”那个，接下来，选择工艺库。
问题来了：选择analoglib这个cadence自带的库 和 选择厂商提供的库（比如我这里是SMIC_40nm的）对于后续的电路仿真有什么区别呢?后续搭电路的时候，不是可以在各种库里面选择symbol吗?

【第二】
接着上面那个问题，在搭电路的时候，我们可以多种选择instance symbol，比如：选择analoglib里面的MOS管，然后再修改model name匹配要使用的工艺库；或者直接用工艺库（例如SMIC_40nm）里面的MOS。这两者的不同对于后续的ADE仿真中添加model library这个步骤有什么影响吗?如下图所示，好像每次都是这样呀。

两种方法在其他方面还有什么影响吗?
我对于两种方法的理解是：前者的移植性更好一点，工艺库如果更换了的话，只要改一下model name就行，不用替换每一个元器件（当然，还是要改具体宽长比之类的）；后者对于确定了工艺库的话更加方便。不知道理解的对不对。有没有什么更深层次的区别?

各位老师，求解答疑惑……

第一次发帖，有什么格式错误啥的，请各位指正哈~

我觉得如果你的design lib里面需要同时画版图的话, 最好是attached到foudry厂提供PDK的工艺库, 这样才能比较正常地显示版图; 电路设计里面最好是调用PDK的工艺库里面的器件, 虽然symbol和analogLib里面的一样, 但通常PDK的工艺库器件的CDF参数是特别定制过的, 能提供很多analogLIb里面器件所没有的功能, 比如W,L的最大最小限制, 自动计算S/D面积等.

原来如此，多谢指教，我暂时只做过原理图设计，所以对版图这块欠考虑了。
就是说，如果直接用要仿真的工艺库里的器件instance symbol的话，可以直接在原理图上有更多的参数设置咯

大致明白了，再次感谢老师！