请教一下spetra工艺库和仿真时候用的模型库的区别
时间：10-02
整理：3721RD
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不明白为什么要用两次呢?给一个工艺库不就行了么。还有一个问题，今天添加模型库的时候说
2) define device or subcircuit condition as following statement:
e.g.
xyyy (d g s b) mndepmacro w=20u l=2u----depletion MOS macro
m1 (d g s b) mn l=0.5u w=20u----MOSFET
q1 (nc nb ne) qvp5----BJT
r1 (n1 n2) rhr2k l=100u w=5u----Resistor subcircuit
c1 (n1 n2) cpip w=200u l=200u----Capacitor
这个怎么操作呢，之前的定义工艺角我已经弄好了。
谢谢回答
2) define device or subcircuit condition as following statement:
e.g.
xyyy (d g s b) mndepmacro w=20u l=2u----depletion MOS macro
m1 (d g s b) mn l=0.5u w=20u----MOSFET
q1 (nc nb ne) qvp5----BJT
r1 (n1 n2) rhr2k l=100u w=5u----Resistor subcircuit
c1 (n1 n2) cpip w=200u l=200u----Capacitor
这个怎么操作呢，之前的定义工艺角我已经弄好了。
谢谢回答
好吧，没人看算啦
是你没有说清楚要表达什么，我看了两遍没看明白