微波EDA网,见证研发工程师的成长!
首页 > 研发问答 > 微波和射频技术 > RFIC设计学习交流 > 工艺角仿真过程中出现了问题

工艺角仿真过程中出现了问题

时间:10-02 整理:3721RD 点击:
各位大侠,请教一个问题:在FF和SS工艺角仿真中发现管子处于线性区,怎么样确保管子处于饱和区了?是不是在TT工艺角下,取Vds>Vdsat+100mv就可以了?还是Vds比Vdsat大其他的数值的情况下,只要TT工艺角下管子处于饱和区,FF和SS工艺角下管子就处于饱和区啊?有经验数值吗?万分感谢!

顶一下,我也正在被工艺角仿真折磨

稳健的设计各个corner都应该在饱和区,tt时就需要更大的margin

我们正做的设计对功耗要求很严,工作电压很低,很难留足够大的margin啊。

什么是工艺角仿真怎么仿?

Vds>Vgs-Vth 余量要留大点.

如果裕度只能那么高的话,那就只能换更好的工艺来满足了。
不同工艺之间的corner偏差是不一样的,跟流片厂工艺有关,同时如果要求低电压的话,那就最好用低压工艺。

Margin大小跟电路结构有关吧

电路结构有关吧...

最好各个corner都满足要求,实在没办法也可不要求。关系到良率和成本的折中。

trimming

能不能介绍下 工艺角怎么仿真~ 不胜感激

thank you

我电路里面的电流镜ss角和TT角差很多,求指教

Copyright © 2017-2020 微波EDA网 版权所有

网站地图

Top