求教相关参数的计算
时间:10-02
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根据spice模型参数文件,可以得到+tox = '1.3E-8+toxn' ,tt中就是1.3*10E-8 m ,根据拉扎维书上13页说的:tox=0.5*10E-8 m时,Cox=6.9fF/um^2,而Cox=(硅的介电常数)/tox,可得模型中Cox=(0.5*10E-8/1.3*10E-8)*6.9 fF/um^2=2.6538 fF/um^2,电子迁移率是+u0 = 4.95094E-2 m^2/v/s
然后计算得KPn=U0*Cox=4.95094*(10^-2)*(10^12) um^2/v/s * 2.6538*(10^-9) uF/um^2=131.388 uA/v^2
但是按这个计算的参数,手算的结果总是和仿真结果差别很大,根据仿真中处于饱和状态的MOS管按饱和区电流公式计算得KPn=42.94 uA/V^2,两者差距很大,很是不解,求高手解疑啊!如何根据spice模型提取手算的模型参数了
然后计算得KPn=U0*Cox=4.95094*(10^-2)*(10^12) um^2/v/s * 2.6538*(10^-9) uF/um^2=131.388 uA/v^2
但是按这个计算的参数,手算的结果总是和仿真结果差别很大,根据仿真中处于饱和状态的MOS管按饱和区电流公式计算得KPn=42.94 uA/V^2,两者差距很大,很是不解,求高手解疑啊!如何根据spice模型提取手算的模型参数了
是不是电子迁移率看错了,看成N管了?将U0减小一半,结果就差不多了。怎么觉得你计算的是N管,仿真的是P管
是计算的N管,再说两者差三倍了,查了下资料,发现比较复杂的模型一般都是通过仿真提取出参数来的,不知道谁有经验介绍下 啊
把你的网表发来看下~
我之前也发现这个问题,一直没有正解。
这人理解仿真与PCM给的是吻合的,是在大信号下测得的数据。
ID=1/2 u Cox W/L(VGS-VT)^2,此时是在VGS=VDD时测得的,过驱动很大,电子迁移率在大信号下有迁移率衰减(可参看Gray书中电子迁移率衰减一节),导致K‘变小,只有30-50uA/V^2左右。
但在小信号分析时,由于MOS的过驱动不是非常大,输入信号变化量又非常小,迁移率衰减变得不严重。小信号分析时K‘在100uA/V^2左右。
以上是个人理解,不知道是不是正解,有没有人给个正解。