tsmc工艺的蒙特卡诺分析

第一次接触到tsmc的工艺，有很多不了解的东西，希望有用过tsmc工艺或者了解的大侠给科普一下啊。
具体问题：跑仿真时，工艺角的设置有以下选项：（1）total corner；（2）global corner + local MC；（3）local MC only；（4）global MC + local MC；
在（1）中totalflag_xx=1globalflag_xx=1mismatchflag_xx=1;
在（2）中totalflag_xx=0globalflag_xx=1mismatchflag_xx=1;
在（3）中totalflag_xx=0globalflag_xx=0mismatchflag_xx=1;
在（4）中totalflag_xx=0globalflag_xx=1mismatchflag_xx=1;
我现在有一个疑问，这个total corner和global corner 有什么区别?如果要做蒙特卡诺分析，应选哪个?请不吝赐教，谢谢

另外global corner 和global MC分别是什么意思呢?谢谢

没有人了解吗?说说自己的理解也好啊！

我也想了解