请问大家SMIC双阱工艺的问题

有人告诉我P阱要用逻辑操作生成，什么意思?

就是画版图时只画NWELL就OK了，PWELL=！NWELL

2# 6666silicon
谢谢，那就直接把没做Nwell的地方当做Pwell,是吗?那版图层里的PWELL怎么用呢?不太懂
现在主要是想做双电源的电路

1# 323217588
一般情况下，为了节省mask，pwell一般采用nwell的反版，具体是通过nwell注入后生长一层oxide，然后普注形成pwell。