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大家来讨论下LVS

时间:10-02 整理:3721RD 点击:
大家来帮忙解决下这个LVS的问题:
版图DRC是跑过了但是在跑LVS的时候版图中的参数是正确的器件的SUB-TYPE是NN,NP(normal mos)或者LN,LP(low threshold mos)但是电路图网表中的MOS的SUB-TYPE就只能是NM,PM
如果把电路图网表中的SUB-TYPE改到和版图中一样(NN,NP或者LN,LP)就可以了请问下这是什么原因?
要怎么样才能使两个网表中器件的SUB-TYPE一致呢?

怎么都没人回啊 ?
请问各位跑LVS的时候有碰到过这个问题的吗 ?
有的话来讨论下啊!

应该是你那里缺少dummy,此外有些厂家提供的工艺command file本身由于没有update到新的工艺,所以有些在作LVS的时候无法将layout中的器件识别,这时候的确需要修改netlist来得到layout and sch match的结果。我记得你所说的LN和LP的确需要一层单独的dummy来作为lvs识别层。由于不知道你具体的加工厂的名称,所以在这里不好说出layer ID。

可以改LVS文件,把器件定义,提取语句的NN,NP改为NM,PM,就OK了。注意要把所有的相关语句都改了。还有,改之前作一下备份。

我用的工艺库是csmc0.5um 三楼的仁兄说的LN、LP中的dummy应该就是NS、PS吧?我加了NS、PS后版图中的器件是LN、LP,不加的时候就是NN、NP。
五楼的仁兄你好我想如果把LVS文件中的NN、NP该了肯定是可以了但是如果我画的是低阈值器件的话就是LN、LP,如果把这个也改了的话那不就区别不了版图中所画的器件了吗?
谢谢两位,还得麻烦继续帮帮忙

sch的netlist中总是NM、PM,这个器件类型受所加模型类型的影响吗?

因为这是两个不同的管子类型。你不可以乱改的,你应该同设计工程师确认他用的是哪一种管子。如果两种管子在 sch 中提出的类型一样,需要设计工程师来修改的。

这样好办,吧所有的NM PM改过来不就行了?

进来学习学习!

确认你需要使用的是什么类型的管子,然后再看看是否需要修改文件还是询问工艺厂家解决办法,
不可以随便该的啊.

so difficult problem

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