二氧化硅-硅界面分凝的模型

我们要做一个在热氧化过程中二氧化硅和硅界面分凝现象的仿真，我使用Tcad的Athena工艺仿真器，通过diffuse工艺在掺杂衬底上氧化了一层二氧化硅，并提取了杂质的垂直分布。但是，问题是，我找不到关于界面分凝的模型，可以用来对仿真进行理论的分析。所以，请问有木有大神，可以给些指导，这个界面分凝的模型在哪可以找到?

这是Physical Design的范畴么?

貌似懂行的人不多啊

是啊，这个软件用的专业限定范围很小

我也在找segregation