请教！

楼上的wyg朋友你好，首先非常欢迎来到本论坛，希望你下次提问的时候能把问题提的“复杂”一点，你现在这样的提问有时很难得到别人的回答，如果你把你碰到的问题说明的详细点，或许会有更多人来讨论，从而互相学习，互相进步！
    再来说说你的问题：因为我最近仿真周期结构时候，也用到了PML和master/slave边界条件，但是由于缺少这方面的资料，也一直没有设置正确，只能是通过自己不断调试，其中我觉得pml的厚度层数设置肯定是一个问题，这个可以请教一下做fdtd的同学，他们肯定会设置过这个边界条件，而且在微带结构的仿真上好像pml要设置两层，分别对应金属贴片和基片，在help中也有这么一句话：The material of the corresponding base object touching the PML is not homogenous. An example is a metal-shielded microstrip line with a substrate. One PML could be drawn to terminate the microstrip and another could correspond to the substrate不知道这句的正确理解是什么?
    暂且就说这么几句。
    非常希望更多朋友，不管是懂的或是不懂的，只要对此有兴趣，来参与这个pml的讨论！

PML还没有遇到，看看大家的看法待会去看看资料

个人想法:
      PML和RAD边界在一般情况下是可以通用的.只是后者更简单,容易使用,并且在10以后的版本中后者还有了高级使用功能,比如 rad , enforce field ,inccome field 个人建议在仿真时还是使用后者,PML边界是对RAD边界的加强和补充,在对大扫描角度的天线进行仿真时最好用它,起使用比较麻烦,观察远场时还要做list face 处理.我做过很多的验证这两个边界可以混用.

PML我在之前的帖子里说过一些，按照asoft官方的说法，PML可以做近场截断，而Rad只能远场截断。不过在目前的仿真过程中，还没有发现PML的优越性。
另：PML在Base Face Radiation Properties里也有Rad的advanced options设置。

好像听人说过拥PML 算喇叭要比用rad更精确一些 不知道是不是 这样子